产品名称:接触式DUV曝光装置
***:LTJ
型号:WEX-193MCE
关键词:ArF、KrF、接触曝光
***、简介
LTJ公司成立于1993年10月,提供光刻领域所需的技术和产品,为DUV光刻胶研发及验证提供低成本解决方案。WEX-193MCE是***款实验型接触式ArF曝光装置,并且可以拓展KrF光源。
二 、技术规格
基板尺寸:4寸
Mask尺寸:5寸
曝光载台
光源:ArF 193nm(KrF 248nm可选)
CD解析度:200nm
三、应用
适用于DUV光刻胶研发及验证。
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详细信息 产品名称:接触式DUV曝光装置 ***:LTJ 型号:WEX-193MCE 关键词:ArF、KrF、接触曝光 ***、简介 LTJ公司成立于1993年10月,提供光刻领域所需的技术和产品,为DUV光刻胶研发及验证提供低成本解决方案。WEX-193MCE是***款实验型接触式ArF曝光装置,并且可以拓展KrF光源。 二 、技术规格 基板尺寸:4寸 Mask尺寸:5寸 曝光载台 光源:ArF 193nm(KrF 248nm可选) CD解析度:200nm 三、应用 适用于DUV光刻胶研发及验证。 |