会员登录|免费注册|忘记密码|管理入口 返回主站||保存桌面|手机浏览|联系方式|购物车
企业会员第1年

上海求峰仪器设备有限公司  
加关注0

半导体光刻Litho、量测Metrology和检测Inspection

搜索
新闻中心
  • 暂无新闻
产品分类
  • 暂无分类
联系方式


请先 登录注册 后查看


站内搜索
 
荣誉资质
  • 暂未上传
友情链接
  • 暂无链接
首页 > 供应产品 > 接触式DUV曝光装置WEX-193MCE
接触式DUV曝光装置WEX-193MCE
单价 面议对比
询价 暂无
浏览 12
发货 上海付款后3天内
基板尺寸 4寸
Mask尺寸 5寸
CD解析度 200nm
过期 长期有效
更新 2023-05-26 15:48
 
详细信息

产品名称:接触式DUV曝光装置


***:LTJ


型号:WEX-193MCE


关键词:ArF、KrF、接触曝光


***、简介


      LTJ公司成立于1993年10月,提供光刻领域所需的技术和产品,为DUV光刻胶研发及验证提供低成本解决方案。WEX-193MCE是***款实验型接触式ArF曝光装置,并且可以拓展KrF光源。


二 、技术规格


       基板尺寸:4寸


      Mask尺寸:5寸


      曝光载台


      光源:ArF 193nm(KrF 248nm可选)


      CD解析度:200nm


三、应用


      适用于DUV光刻胶研发及验证。