产品名称：无掩膜激光直写系统
***：NSS (Nano System Solutions)
型号：DL-1000i
关键词：激光直写，无掩膜曝光，无掩膜光刻
***、简介
DL-series无掩膜激光直写系统采用作为空间光调制器之***的数字微镜装置（Digital Micromirror Device：DMD）作为曝光图案生成器，这是***种将DMD上放映的图案数据缩小投影到光刻胶上的数字曝光装置。因为可以直接曝光在电脑上制作的曝光数据，所以可以自由地创建曝光模式。
二、技术规格
分辨率：0.5um分辨率（1um或2um分辨率可供选择）
样品尺寸：支持300mm*300mm(可向下兼容)
激光波长：365nm LED & 375nm LD
可用于3D结构设计
三、应用
应用于晶圆PVD和CVD各类镀膜应力和Bow测试。
光电半导体器件的开发
通信设备的开发
光固化材料的开发
生物，生命科学，复杂化学（微TAS，微流控技术）
局部曝光和选择性曝光