HORIS L12 管式低压化学气相沉积设备
HORIS L12 LPCVD System
HORIS L12系列管式LPCVD主要用于156mm及以上的TOPCon光伏高效电池的超薄隧穿氧化层和Poly薄膜***，该设备为多管结构，每管可单独***。设备主要包括上下料系统、反应室系统、真空控制系统、加热系统、水平传输系统、电气控制系统等部件组成。主要的***模块是用于电池背面形成载流子选择性通过的隧穿氧化层，有助于提高电池开压，达到提升电池效率的目的。设备特点多路进气方式以及前后双匀流设计保证高***薄膜***均匀性
高强度石英舟结构和双层密封反应腔室保障低运营成本，实现超高设备稼动率
超大承载机构设计以及专项升***的抓取机构
采用先进的闭环压控系统，确保成膜速度和均匀性
具备多种镀膜技术，如多层复合膜、掺杂多晶硅技术
产品应用适用硅片尺寸
156mm~230mm
装片量
1300~2860（单槽双插）片 / 管
单机台管数
5、6、10、12 管 / 系统
***种类
氧化硅、多晶硅、掺磷多晶硅、掺硼多晶硅
温度范围
600~1000℃