Esther E320R 8英寸单片减压硅外延系统
Esther E320R 8 Inch Single Wafer Reduced Pressure Silicon Epitaxy System
Esther E320R主要用于体硅外延、埋层外延、选择性外延等多种特色***的运行。该设备主要由传输系统模块、***腔室模块、压力控制模块等组成。精准的压力、气流场与温场控制，保证了外延片良好的***性能，保证成膜***。传输模块可兼容多种晶圆尺寸，同时满足多种类的***需求。设备特点专业的气流场和温度场设计，获得良好的***性能
高精度的压力控制系统，保证成膜***
稳定的传输和电机升降系统，保证***结果***致性
友好的人机交互和全面的安全性设计，保障系统稳定、安全、高效
具有单腔和多腔两种机型，可满足不同客户需求
产品应用晶圆尺寸
6/8英寸兼容
适用材料
硅
适用***
体硅外延、埋层外延、选择性外延
适用领域
集成电路、功率半导体、衬底材料、科研领域