Hesper E230A 12英寸单片常压硅外延系统
Hesper E230A 12 Inch Single Wafer Atmospheric Pressure Silicon Epitaxy System
Hesper E230A适用于12英寸N/P硅外延生长，产品自主研发了多路多区进气导流结构、多区红外加热温控系统，具备高洁净腔室控制技术、膜厚均匀性控制技术、电阻率均匀性控制技术，产品各项指标均达到先进水平。设备特点专业的气流场和加热场设计提供优良的***性能
高效传输设计可提高产能
单、双、四腔兼容设计，可满足不同客户需求
产品应用晶圆尺寸
12英寸
沉积材料
硅
适用***
N&P常压硅外延
适用领域
功率半导体、衬底材料、科研领域