SES Series 8英寸多片硅外延系统
SES Series 8 Inch Batch Wafer Silicon Epitaxy System
SES系列硅外延系统为单腔多片式硅外延设备，适用于4、5、6、8英寸的硅外延***。SES系列反应腔室采用多片平板式的结构，配合感应加热的方式实现高***的外延薄膜生长，适用于厚度5-150µm范围的外延***，***可调N型、P型掺杂。该设备智能化人机交互设计与高效的安全互锁保障了系统安全和稳定。设备特点适用于5-150微米范围的硅外延***
先进的感应加热和气流场技术提供了优良稳定的***性能
多片平板式设计，高容载量
自动化程度高、产能高、低运营成本
产品应用晶圆尺寸
4、5、6、8英寸
适用材料
硅
适用***
N&P硅外延
适用领域
功率半导体、衬底材料、科研领域