采用***标准的设计和制造***技术，采用全数字化技术，替代庞大的光电倍增管（PMT）模拟技术，与***光谱仪技术同步，采用真空光学室设计及全数字化激发光源、***的CCD检测器、高速数据读出系统，使仪器具有极高的性能、极低的检出线、长期的稳定性和重复性。适用于金属制造业、加工业及金属冶炼业用于***监控、材料牌号识别、材料研究和开发的主要设备之***。
3.1 规格和技术参数 项目指标
检测基体 Fe基
检测时间 试样品类型而定，***般25s左右
光学系统 帕型－龙格罗兰圆全谱真空型光学系统
波长范围 170～580nm
焦距 400mm
探测器 高性能CCD阵列
电极 钨材喷射电极
分析间隙 样品台分析间隙：3.4mm
工作温度 (10～35)℃
存储温度 (0～45)℃
工作湿度 20％～80％
氩气纯度要求 99.999%
氩气进口压力 0.5MPa
氩气流量 激发流量约3.5L/min，维持流量约0.4L/min
激发***大功率 400VA
光源类型 全新可调节数字化光源，高能预燃技术（HEPS）
放电频率 100-1000 Hz
放电电流 ***大400A
激发台孔径 13mm
真空系统 真空软件自动控制、监测
工作电源 220V AC，50/60Hz，保护性接地的单相电源
仪器尺寸 725*865*550（mm） 仪器重量 100kg
