主要特点： *实时薄膜沉积速率、薄膜厚度和光学常数（n&k）分析，同时标准偏差统计分析； *自动程序化校准； *精密的实时反馈系统； *程序控制，可实时多层薄膜沉积监控和控制； *多Wafer监控功能； *Wafer基底旋转监控和控制功能； *所有参量原位实时检测； *操作装配简单便捷；
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主要特点： *实时薄膜沉积速率、薄膜厚度和光学常数（n&k）分析，同时标准偏差统计分析； *自动程序化校准； *精密的实时反馈系统； *程序控制，可实时多层薄膜沉积监控和控制； *多Wafer监控功能； *Wafer基底旋转监控和控制功能； *所有参量原位实时检测； *操作装配简单便捷；
