匀胶机是高***、全NPP POLOS单晶片，为MEMS、半导体、PV、微流体域等域的研发和小批量生产而设计。适用于所有典型的旋涂。***:清洁、冲洗/千燥、涂层、显影和蚀刻。
勾胶机非常适合处理从直径为 2.5 毫米到 160 毫米/260室米的小碎片或尺寸为100x100 室米或 150x150 室米的方形样的各种基材，系统包括带注射器支架的透明盖子。直径可达 300 毫米，这些装置通过易 于使用、可拆卸的彩色触摸屏进行操作，提供直观的编程和***存储。可以选择添加各种喷嘴、超音速清洗和 分配线，所有旋涂机都标配有夹头。标准单元为NPP材料，PTFE单元为PTF。SPIN150i 适用于长达150 毫米的基 材，包括免费的真空吸盘 A-V36 和 片段适配器 D-V10。规格
1、可编程 CW 和 CCW 以及搅拌旋转
2、带传感器联锁的自动安全盖锁
3、速度0rpm - 12,000 rpm，精度 +/- 0.1 rpm
4、加速/减速 1- 30,000 rpm/sec，每步可选
POLOS Advanced 系列规格
1、带传感器联锁的自动安全盖锁
2、自动顺序或平行化学品分配
3、多达 6个喷嘴，每个喷嘴可独立编程
