CLONE双模式等离子刻蚀机清洗机CLONE4,CLONE6,CLONE8

 
 
发货 上海付款后3天内
品牌 Femto Science
更新 2023-06-08 09:49
 
详细说明

应用:

·        刻蚀:氧化物刻蚀 RIE模式, 氮化物刻蚀RIE模式, 硅刻蚀 RIE模式, 光刻胶刻蚀 RIE模式, 聚合物(RIE+PE),二维材料 RIE

·        表面处理:亲水处理 PE模式,功能化 PE模式,粘附力增强:PE+RIE,高分子: RIE+PE

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